事件の基本情報
| 裁判所 | 知的財産高等裁判所 |
|---|---|
| 事件番号 | 平成24(行ケ)10435 |
| 判決日 | 2013-09-19 |
| 分類 | 知的財産 / 特許 |
| 判決種別 | 判決 |
| 当事者 | 原告 三洋電機株式会社/被告 日亜化学工業株式会社 |
この事件の代理人
争点(判決文より)
争点は,容易 想到性(実質的には,引用発明の認定誤り)の有無である。 1 特許庁における手続の経緯 被告は,名称を「窒化ガリウム系発光素子」とする発明の特許権者である(特許 4033644号,平成13年7月3日特許出願,優先権主張番号:特願2001 -202726号,優先日:平成12年7月18日,平成19年11月2日特許登 録,請求項の数は7。〈甲11〉)。 原告は,平成24年3月30日,請求項1及び3ないし7項について本件無効審 判請求(無効2012-800038号)をしたが,特許庁は,同年11月14日, 「本件審判の請求は,成り立たない。」との審決をし,その謄本は同月22日,原 告に送達された。 2 本件発明の要旨 本件明細書(甲11)によれば,本件特許の請求項1及び3ないし7に係る発明 は,以下のとおりである。 【請求項1】(本件発明1) 「ストライプ状の発光層の両端面に,光出射側鏡面と光反射側鏡面を持つ共振器 構造を有する窒化ガリウム系発光素子において, 光出射側鏡面には,窒化ガリウムより低い屈折率を有する低反射膜が,該光出射 側鏡面から屈折率が順に低くなるように2層以上積層され,該光出射側鏡面に接し た第1の低反射膜が,ZrO ,MgO,Al O ,Si N ,AlN及びMgF 2 2 3 3 4 - 2 - から選ばれたいずれか1種から成り, 光反射側鏡面には,ZrO ,MgO,Si N ,AlN及びMgF から選ばれ 2 3 4 2 たいずれか1種からなる単一層の保護膜が接して形成され,かつ,該保護膜に接し て,低屈折率層と高屈折率層とを低屈折率層から積層して終端が高屈折率層となる ように交互に積層してなる高反射膜が形成されてなる窒化ガリウム系発光素子。」 【請求項3】(本件発明3) 「前記低反射膜が,前記第1の低反射膜に接しており,かつSiO からなる第 2の低反射膜を有する請求項1に記載の窒化ガリウム系発光素子。」 【請求項4】(本件発明4) 「前記低屈折率層がSiO からなり,前記高屈折率層がZrO 又はTiO か 2 2 2 らなる請求項1乃至3のいずれか1つに記載の窒化ガリウム系発光素子。」 【請求項5】(本件発明5) 「前記高反射膜は,前記低屈折率層と前記高屈折率層とを交互に繰り返して2ペ ア以上5ペア以下の積層膜とする請求項1乃至4のいずれか1つに記載の窒化ガリ ウム系発光素子。」 【請求項6】(本件発明6) 「前記低反射膜の膜厚は,λ/4n(λは発振波長,nは低反射膜の屈折率)と する請求項1乃至5のいずれか1つに記載の窒化ガリウム系発光素子。」 【請求項7】(本件発明7) 「前記低反射膜を2層以上とした第1の低反射膜の膜厚は,λ/2n(λは発振 波長,nは低反射膜の屈折率)とする請求項1乃至5のいずれか1つに記載の窒化 ガリウ
主文(判決文より)
特許庁が無効2012-800038号事件について平成24年11月 14日にした審決を取り消す。 訴訟費用は被告の負担とする。 - 1 -
出典
本ページは裁判所が公開する判例データに基づいています。