職務発明対価請求控訴事件

事件の基本情報

裁判所知的財産高等裁判所
事件番号平成27(ネ)10044
判決日2015-09-30
分類知的財産 / 特許
判決種別判決
判決文が挙げた条文特許法35条
当事者控訴人 兼被控訴人株式会社

この事件の代理人

  • 日野修男(被告代理人)/第一東京弁護士会
  • 岩永利彦(原告代理人)/第一東京弁護士会

争点(判決文より)

争点及び争点に関する当事者の主張
争点及び争点に関する当事者の主張は,次のとおり付加,訂正するほか,原判
決「事実及び理由」の第2の2記載のとおりであるから,これを引用する。
(1) 原判決11頁16行目冒頭から同頁21行目末尾までを次のとおり改める。
「(b) 本件明細書1にはイオンプレーティングの方式としてHCD方式について
の記載はあるがAIP方式についての記載はない。
本件発明1,2の本件原出願当時(昭和59年10月5日),イオンプレーティン
グの方式としてAIP方式が広く知れ渡っており,公知の技術であった(乙145
ないし148)にもかかわらず,本件明細書1にはAIP方式についての記載がな
い。そして,HCD方式では金属が溶融した後,蒸発する過程を経るのに対し,A
IP方式ではそのような過程を経ないという製造工程の根本的な相違がある。
また,本件明細書1の段落【0011】には,クロムの蒸着速度がチタンの蒸着
速度より極めて速いことが記載されているけれども,AIP方式では皮膜形成速度
はアーク電流に依存し,金属の平衡蒸気圧に無関係であって,クロムよりチタンの
方が蒸着速度が速いことが公知であったといえるし,本件明細書1には,HCD方
式の実施例が記載されていることなどから,HCD方式を前提として初めて,本件
発明1の作用効果を奏功するものであるといえる。
HCD方式に限定する記載はないなどの理由では,本件発明1の技術的範囲にA
IP方式が含まれるものとはいえない。」
(2) 原判決12頁7行目冒頭から同頁10行目末尾までを次のとおり改める。
「 ●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●
●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●
●●●●●●●●●●1992年(平成4年)当時,クラックや剥離の観点から,
Cr Nの存在は良くないこと,すなわちCr N+CrNの混合相を有する一審被
2 2
告製品1は期待した作用効果を発揮していないことの知見を得たものであり,それ
以後,一審被告は,本件発明1を実施しないこととした。
●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●
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●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●
●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●●
●●●●●●●●●●●●●●●●●そして,1999年(平成11年)3月8日
付け「IP-200サイドレールの開発」(甲41)には,「IP-200とは...」
の表題の下に,「真空チャンバー内でCrターゲット表面

主文(判決文より)

1 一審原告の控訴に基づき原判決を次のとおり変更する。
(1) 一審被告は,一審原告に対し,801万4406円及びこれに対する平成
23年5月21日から支払済みまで年5分の割合による金員を支払え。
(2) 一審原告のその余の請求を棄却する。
2 一審被告の控訴を棄却する。
3 訴訟費用は,第1,2審を通じて,これを10分し,その1を一審被告の負
担とし,その余を一審原告の負担とする。
4 この判決の第1項(1)は,仮に執行することができる。

出典

本ページは裁判所が公開する判例データに基づいています。