特許権侵害差止等請求控訴事件

事件の基本情報

この事件の代理人

• 服部真尚（控訴人代理人）／東京弁護士会
• 吉田正義（控訴人代理人）
• 吉田安子（控訴人代理人）
• 櫻井彰人（被控訴人代理人）／東京弁護士会
• 平山俊夫（被控訴人代理人）

争点（判決文より）

争点」は、前記１の請求原因の変更を踏まえ、以下のと
おり原判決の補正をするほか、原判決の「事実及び理由」欄の第２の１及び２
に記載するとおりであるから、これを引用する。
⑴ 原判決３頁２５行目冒頭から７頁１４行目末尾までを次のとおり改める。
「ア 控訴人は、令和３年１２月１０日付けで本件特許１に関する訂正審判
請求を行い（甲３５）、令和４年３月３１日、これを認める審決（甲３
８。以下「本件訂正審決」という。）がされ、同審決は確定した。
本件訂正審決後の本件特許１に係る特許請求の範囲の請求項６は以
下のとおりである。
「 被電解原水が導入される電解室と、前記電解室の内部と外部とを区画
する一つ以上の隔膜と、前記電解室の内部及び外部のそれぞれに前記隔
膜を挟んで設けられた少なくとも一対の電極板と、を有し、前記電解室
の外部の電極板が前記隔膜に接触させて設けられている電解槽と、
前記一対の電極板に直流電圧を印加する直流電源と、
陰極となる電極板から発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス
供給器と、を備え、
さらに前記電解室の内部の電極板が前記隔膜に接触させて設けられて
おり、
前記電解室の外部に、前記一対の電極板の一方の電極板を包含する側
室が設けられており、
前記電解室の内部および前記側室に被電解原水が導入されており、
前記希釈用ガス供給器から供給される希釈用ガスを前記陰極又は陰極
水面に送風することにより、
電解時の前記陰極又は前記陰極水面から７ｃｍ離れた位置の水素ガス
濃度を常に４ｖｏｌ％未満に維持し、水素ガス濃度が０．１～４ｖｏｌ％
の、水素ガスと希釈用ガスを含む混合ガスを生体に供給する
生体用水素ガス供給装置。」
イ 本件訂正発明６は、以下のように分説される。
「１１Ａ 被電解原水が導入される電解室と、前記電解室の内部と外部
とを区画する一つ以上の隔膜と、前記電解室の内部及び外部の
それぞれに前記隔膜を挟んで設けられた少なくとも一対の電極
板と、を有し、前記電解室の外部の電極板が前記隔膜に接触さ
せて設けられている電解槽と、
１１Ｂ 前記一対の電極板に直流電圧を印加する直流電源と、
１１Ｃ 陰極となる電極板から発生する水素ガスを希釈するための希
釈用ガス供給器と、を備え、
１１Ｄ さらに前記電解室の内部の電極板が前記隔膜に接触させて設
けられており、
１１Ｅ 前記電解室の外部に、前記一対の電極板の一方の電極板を包
含する側室が設けられており、
１１Ｆ 前記電解室の内部および前記側室に被電解原水が導入されて
おり、
１１Ｇ 前記希釈用ガス供給器から供給される希釈用ガスを前記陰極
又は陰極水面に送風することにより、
１１Ｈ 電解時の前記陰極又は前記陰極水面から７ｃｍ離れた位置の
水素ガス濃度を常に４ｖｏｌ％未満に維持し、水素ガス濃度が
０．１～４ｖｏｌ％

主文（判決文より）

１ 本件控訴を棄却する。
２ 控訴費用は、控訴人の負担とする。

出典

本ページは裁判所が公開する判例データに基づいています。